SK海力士无锡厂欲引入EUV光刻机 因美阻挠或计划搁浅

继英特尔扩建成都厂计划被否决后，传韩国存储器大厂SK海力士(SK Hynix)的无锡厂升级计划也遭美国阻挠。据悉，这次是和ASML最先进的极紫外光（EUV）光刻机有关。SK海力士在无锡的工厂是占据SK海力士DRAM产量的50%，全世界DRAM产量的15%的核心设施。韩国业内人士担心，在中国设有尖端半导体生产设施的韩国企业可能会成为不断升级的中美科技战争的牺牲品。

芯片代工需求高居不下，业内厂商纷纷加码扩产。韩国SK海力士原定改造旗下中国江苏无锡厂，预计引进荷兰ASML最新极紫外光（EUV）微影技术光刻机，进而提高存储器芯片生产效率的计划，因受到美国不希望该过程中使用的先进设备进入中国而受挫。据悉，在硅晶片上刻画半导体回路的装备EUV是生产下一代DRAM的核心装备，由荷兰公司ASML独家生产。 目前，荷兰政府应美国的要求，没有批准向中国出口EUV设备。 一些人担心，如果无锡工厂的尖端化因装备引进问题出现问题，SK海力士的竞争力不仅会减弱，还会引发全球半导体的供应链危机。

据三位知情人士表示，SK海力士的生产计划要求公司以荷兰ASML最新极紫外光（EUV）微影技术的光刻机为无锡厂的一个量产设施进行升级。但美国过去曾表示反对，理由是将这类先进工具运至中国，可能被用于强化该国的军事力量。一位白宫高级官员表示，拜登政府仍专注于防止中国利用美国和盟国的技术来发展最先进的半导体制造。另据一名了解SK海力士在中国营运情况的消息人士称，随着2-3年后新型芯片在SK海力士的生产中占据更大市场，该公司将需要EUV光刻机来控制成本并加速生产。

SK Hynix是全球最大的DRAM存储芯片供应商之一。Hynix 海力士芯片生产商，源于韩国品牌英文缩写"HY"。海力士即原现代内存，2001年更名为海力士。海力士半导体是世界第三大DRAM制造商，也在整个半导体公司中占第九位。2019年9月5日，SK海力士设在中国无锡的半导体工厂已经完全使用中国生产的氟化氢取代了日本产品。从智能手机到数据中心，几乎所有领域的电子设备都可以看到DRAM存储芯片。