SK海力士将使用子公司的KrF PR，用于238层NAND闪存

据报道，SK海力士在2020年以约22.2亿元人民币的价格收购了锦湖石油化学的电子材料业务部门。最近，据The Elec报道，SK海力士开发的厚氟化氪（KrF）光致抗蚀剂（PR）已经通过了该公司的质量检验。

三星所使用的是Dongjin semhem公司的产品，该产品与SK海力士的KrF PR类似，厚度约为14至15微米。SK海力士将核心材料的研发工作交由其子公司进行，这使得其旗下的存储器产品在市场上比竞争对手更具有竞争力。随着明年存储器市场逐渐恢复正常，SK海力士的KrF PR销售额也将随之增长。此外，日本的JSR公司也正在研发其自己的PR产品，该产品的厚度为10微米。

在NAND闪存的生产过程中，需要使用更加“厚”一些的PR，因为这样更适合进行堆叠。例如，在生产100层的NAND芯片时，一层层制作的成本会变得更高，而更厚的PR则可以让存储器制造商一次性制造多个层。然而，更厚的PR具有更高的粘度，这会对均匀性产生负面影响，因此在开发过程中面临更大的挑战。

目前，SK海力士的计划是将KrF PR用于238层NAND闪存芯片的生产，并将JSR作为次要供应商，两种产品都将被使用。目前，SK海力士每月生产约5000片238层NAND闪存的晶圆，随着KrF PR的引入，预计产量将大幅度提高。此外，SK海力士还在推动其他半导体生产所需的关键材料的国产化工作。

据悉，SK海力士早在去年8月，就已宣布成功研发全球首款业界最高层数的238层NAND闪存，并向合作伙伴发送238层512Gb TLC 4D NAND闪存的样品。