三星与ASML合作推动EUV技术发展 瞄准2纳米制程节点

韩国三星日前与荷兰半导体设备商ASML签署了价值1万亿韩元（约7.55亿美元）的协议，两家公司将在韩国投资建造半导体芯片研究工厂，并将在该研究工厂开发新一代EUV半导体制造技术。该协议将推动EUV技术的发展，并助力三星在2nm制程节点上取得领先地位。

三星电子副会长、设备解决方案部门负责人Kyung Kye-hyun强调，该公司的最新协议将帮助其获得下一代High-NA（数值孔径）EUV光刻扫描仪设备。

Kyung说：“三星已经确保了对High-NA设备技术的优先权，我相信我们创造了一个机会，从长远来看，我们可以优化High-NA技术在DRAM存储芯片和逻辑芯片生产中的使用。

报道强调，三星与ASML的协议，是在韩国京畿道即将建成的芯片研究工厂中，两家公司的工程师将共同努力改进EUV制程技术的半导体生产。另外，三星与ASML的交易重点不是将2纳米芯片的制造设备引进韩国，重点是与这家荷兰公司建立合作伙伴关系，以便它可以更好的利用下一代光刻机设备。

ASML将在未来几个月内推出能制造2纳米节点芯片的设备。其最新的High-NA EUV光刻机的孔径将从0.33，提高到0.55，这将使芯片制造商能够使用超精细图案化技术来制造2纳米节点芯片。

据称，ASML明年规划产能仅有10台，而英特尔已经预订了其中6台，再加上三星所获取的光刻机设备，目前留给台积电的机会似乎并不多了，不过ASML计划在未来几年内将此设备产能提高到每年20台。

此外，三星计划在2025年底开始生产2纳米节点制程芯片，这是在使用ASML High-NA EUV光刻机之后。不过，像任何技术和计划一样，这些芯片的推出可能会受到市场状况和良率的影响，因此可能会出现延迟。