危！日本光刻胶断供中国

光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料，可以决定半导体图形工艺的精密程度和良率。作为半导体制造重要材料，由于技术壁垒和客户壁垒较高，全球半导体光刻胶市场集成度一直很高，市场长期被日美厂商垄断。

日本信越化学一直是光刻胶领域的龙头企业，近日有媒体报道，由于日本信越化学KrF光刻胶产能不足等原因，导致中国大陆多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张，部分中小晶圆厂KrF光刻胶甚至出现断供。

业内人士表示，未来国内多家晶圆厂将面临KrF光刻胶大缺货的处境，因此多家晶圆厂正在加速验证导入国内KrF光刻胶。

信越化学之所以停止给部分晶圆厂供应KrF光刻胶，与2月份日本福岛东部海域发生7.3级地震有莫大的关系。地震导致信越化学KrF光刻胶产线受到很大程度的破坏，至今尚未完全恢复生产。

上述业内人士还表示，国内晶圆厂面临KrF光刻胶大缺货，除了信越化学KrF光刻胶产线供应出问题外，更大的原因在于，在福岛地震之前，KrF光刻胶的产能供应就较为紧张。

光刻胶国产化任重而道远

目前，全球半导体光刻胶被日本JSR、TOK、住友化学、信越化学，以及美国陶氏化学所主导。我国适用于6英寸硅片的g线和i线光刻胶自给率约为20%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶自给率不足5%，适用于12寸硅片的ArF光刻胶则完全依靠进口。

虽然如此，但总结发现，由于我国2002专项等政策扶持下，国内光刻胶近年已取得不少进展。

南大光电宣布ArF光刻胶25吨产线建设已完成，明年将量产，性能与日本产品同等，已经拿到首个订单；北京科华KrF光刻胶已通过包括中芯国际在内的部分客户认证，并实现批量供货；晶瑞股份g~line/i~line光刻胶量产，KrF光刻胶已进入客户测试阶段，即将研发ArF光刻胶；上海新阳的ArF干法、KrF厚膜等中试光刻胶产品已取得优异的客户端测试结果。

国内各光刻胶企业正在不断加速自身的高端光刻胶研发进度，期待国内光刻胶公司早日实现技术突破，实现高端半导体光刻胶的国产替代。