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据报导,韩国本土的半导体和显示材料开发商——石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) ,有望显著提高荷兰半导体设备公企业艾司摩尔 (ASML ) 的极紫外光微影曝光设备 (EUV) 的良率。
标签: 半导体厂商 芯片 石墨烯膜
发布时间: 2022年12月16日 15:33 阅读量: 938
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