日本Rapidus引入光刻机 并派员工学习EUV技术

日本芯片公司Rapidus正在北海道建设芯片工厂，目标是2027年量产2nm制程芯片。该公司12月5日宣布，决定在2024年年底引入EUV光刻机，并且将派遣员工赴荷兰阿斯麦学习EUV极紫外光刻技术。 

Rapidus 2023年以来一直在与IBM、ASML、IMEC等公司合作，目标是今年派遣100名员工至IBM、ASML学习先进芯片技术。截至目前，该公司已雇佣了约300名员工。

作为全球最大的光刻机制造商，也是唯一一家EUV光刻机制造商，ASML此前也决定在日本北海道千岁市设立技术支援部门，就近支持Rapidus芯片工厂。Rapidus第一座工厂“IIM-1”已在2023年9月动工，试产产线预计2025年4月启用，2027年开始量产。该公司表示，在正式量产前，将确保招募1000名员工。

阿斯麦是全球最大的半导体制造设备供应商，尤其在光刻机领域处于领先地位，并且拥有极紫外光刻（EUV）技术的垄断地位。EUV技术是实现5纳米至7纳米以下先进芯片量产的关键技术，因此阿斯麦的支持对于Rapidus公司来说至关重要。